納米二氧化硅拋光液 氧化硅拋光漿料

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納米二氧化硅磨料拋光液由高純納米二氧化硅等多種復合材料配置而成，通過高科技術分散成納米顆粒，分散均勻的納米拋光液，具(ju)有高(gao)強度、高(gao)附著力、成膜性(xing)好、高(gao)滲透、高(gao)耐候性(xing)、高(gao)耐磨性(xing)等特點，是一種性(xing)能(neng)優良的CM P技術用的拋光材(cai)料.

 

技術指標：

納米技術二腐蝕硅打磨拋光液 VK-SP30W 灰黑色保濕乳 30nm 20%分量 水 微米二氧化反應硅cnc精密機械加工液 VK-SP50W 黃色水乳 50nm 20%占比 水 nm二被氧化硅鏡面拋光液 VK-SP100W 潔白保濕乳液 100nm 20%含磷量 水  

納米二氧化磨料拋光液應用特性：

1、拋火箭速度平滑度制造，本品拋單單是通過SiO2等食材的均勻的分布nm水a粒子，不要對制造件導致熱學破損，率快，通過消減均勻的分布大比表面積的固體二防氧化硅等水a粒子達標穩定拋光的需求 2、高色度，鏡面拋光液不防腐蝕機器設備，選擇的安會性高。 3、高以達到高溝壑化工作 4、有郊有郊減低cnc精密機械加工后的外表面層割傷，大大減少cnc精密機械加工后的外表面層低質度。  

應用范圍：

1、可(ke)用于微(wei)晶(jing)玻(bo)璃的表面拋光(guang)加工(gong)中(zhong)。

2、采用硅片的粗拋和精拋或是IC生產工作，適采用新一波性整合電源線路多層住宅化聚酯薄膜的十分平整光滑化生產。 3、使用晶圓的后道ＣＭＰ擦洗等半導體技術器材的代工作的時候、平面圖提示器、多晶化模組、微發電機裝置、光導拍照管等的代工作的時候。

4、廣泛用于CMP化學機械拋光，如：硅片、化合物晶體、精密光學器件、硬盤盤片、寶石、大理石等納米級及亞納米級拋光加工。
5、本產品可以作為一種添加(jia)劑(ji)(ji)，也(ye)可應用于水性(xing)高耐候石材保護液、水性(xing)膠(jiao)粘劑(ji)(ji)與高耐候外墻涂料等(deng)領域。

 

納米二氧化硅磨料拋光液使用注意事項：

1、 本品放入時間間隔長后，若有幾瓶濾渣歸屬正常的的情況，用攪伴機攪伴均勻的不作用在使用。 2、 假如有物品變稠表現，是二空氣氧化硅任何的性能指標，可不可以通過與水1:1的百分比稀釋溶液，攪伴平滑后再操作。 3、 緊閉，缺水陰涼的地方處存放，防范地球斜射。  

包  裝：25kg/桶